Новомлинець, О. О.; Завальна, І. В.; Половецький, Є. В.
(Київ : ІЕЗ ім. Є. О. Патона НАН України, 2015)
В роботі розглянута можливість створення блокуючого прошарку у приповерхневому шарі міді шляхом іонної імплантації матеріалу, який має низьку розчинність в міді та
напівпровідниковому матеріалу.